DSX-KYUV30 Maschera UV a bassa temperatura Colla istantanea super-indurente Macchina per esposizione a LED UV semiautomatica

DSX-KYUV30 Maschera UV a bassa temperatura Colla istantanea super-indurente Semiautomatica Esposizione a LED UV

Il sistema di esposizione e mascheratura è il primo sistema di mascheramento UV a LED disponibile sul mercato internazionale. Il Sistema di mascheramento a LED UV è un sistema compatto di mascheramento dell'esposizione dotato di una testa ottica a base di LED, collimata e omogenea.

La sua funzione di mascheramento consente di raggiungere risoluzioni inferiori a 2 μm. È un nuovo approccio di mascheramento, generazione di LED, prestazioni di collimazione senza eguali.

Funzioni di DSX-KYUV30 Sistema di mascheramento UV LED :

Costo di manutenzione 1.Zero. Non ha bisogno di sostituire le parti della sorgente di luce per un lavoro a lungo termine.

2. Design di lunga durata. Può continuare a funzionare 20000 ore.

3. Bassa temperatura di irraggiamento

4. Fascia singola UV

5. Nessun danno alla luce di radiazione umana

6.Tocca l'interfaccia di visualizzazione dello schermo, modifica dei parametri, salvataggio automatico dei dati, funzionamento semplice e affidabile.

7. Il sistema di raffreddamento integrato garantisce un funzionamento normale a lungo termine.

8.Con il circuito di controllo della correzione dell'intensità della luce, assicurare l'uniformità della luce.

9. Accensione radiante, conveniente per il posizionamento del wafer.

Parametri di Il miglior sistema di esposizione a LED UV per fotolitografia :

Come funziona il sistema di fotolitografia

Il sistema di fotolitografia funziona esponendo lo strato di fotoresist sulla lastra a un'intensa luce UV monocromatica. Questa luce UV uniforme da 365 nm viene emessa dalla macchina verso il basso in una direzione quasi parallela. Una diapositiva di mascheratura modellata è posizionata sopra la piastra. Ciò impedisce alla luce UV di raggiungere lo strato di fotoresist nel modello desiderato. Nel nostro caso, dal momento che utilizziamo un fotoresist positivo, l'esposizione alla luce UV degrada lo strato fotoresistente ancora esposto e consente di rimuoverlo dallo sviluppatore in una fase successiva.

Introduzione di Migliore esposizione ai raggi UV :

L'esposizione UV e il sistema di mascheramento utilizzano la sorgente di luce fredda a LED UV. Wafer UV Exposure Machine fornisce gli UV 365nm standard. Allo stesso tempo, in base alle esigenze degli utenti, la macchina di esposizione UV wafer fornisce 385nm, 395nm e 405nm di sorgente luminosa UV, è adatta per la tecnologia ottica, biologica, microelettronica, incollaggio wafer, polimerizzazione, una varietà di applicazioni, come la coltura cellulare, è ampiamente usato in esposizione ai raggi UV.

Questo set di UV LED Exposure adotta la principale tecnologia di sorgenti luminose a LED, realizza pienamente l'illuminazione della sorgente di luce fredda UV a singola lunghezza d'onda, elimina efficacemente l'effetto termico ed è molto adatto per l'uso dell'esposizione ai raggi ultravioletti in laboratorio o in ambienti ultra-puliti.

Wafer UV Exposure System è compatto nella struttura, facile da spostare, utilizzando il controllo touch screen, controllo completamente efficace e sicuro della camera di mascheramento UV.

La fonte di esposizione alle maschere UV per sorgenti luminose UV ha una durata di servizio fino a 10.000 ore, che è molto affidabile e duratura, non richiede manutenzione giornaliera ed è molto comoda da usare.