Caratteristica della macchina per il sistema di polimerizzazione all'azoto del wafer UV

Blog

Categorie

blog

ultimo blog

Tag

Caratteristica della macchina per il sistema di polimerizzazione all'azoto del wafer UV 2024-08-08 17:32:02

Caratteristica della macchina per il sistema di polimerizzazione dei wafer UV:

1) Corpo piccolo, adatto per l'uso con irradiazione di chip da 6/8/10/12 pollici
2) Tempo e luminosità regolabili, funzionamento touch screen, semplice e conveniente
3) Irradiazione dal basso verso l'alto, wafer facili da posizionare
4) Sorgente di luce fredda a LED, prodotto ecologico, con bassa temperatura, esposizione uniforme, struttura compatta, basso consumo energetico, è un modello ideale per l'industria dei semiconduttori e la bassa temperatura non danneggia i materiali sensibili al calore
5) La durata è più di 10 volte superiore a quella delle normali lampade al mercurio e la durata continua è di 15.000-30.000 ore.
6) Zero costi di manutenzione, nessuna necessità di sostituire le parti della sorgente luminosa di illuminazione per lavori a lungo termine
7) Design della sorgente luminosa chiusa, nessuna perdita UV, nessun danno al corpo umano
8) La velocità di sgommatura è elevata e può essere sgommata in pochi secondi
9) Può essere retrocompatibile con dimensioni ridotte
10) Fornire dispositivi per la rimozione e l'indurimento della colla

Precedente Prossimo