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Macchina personalizzata per la rimozione di pellicole wafer da 4 pollici e strati d'oro
Macchina personalizzata per la rimozione di pellicole wafer da 4 pollici e strati d'oro È progettata per la rimozione precisa ed efficiente di film sottili e strati d'oro da wafer, garantendo un funzionamento stabile e un'elevata precisione di lavorazione per applicazioni nel settore dei semiconduttori. Offriamo supporto per la personalizzazione OEM/ODM e soluzioni su misura in base alle diverse esigenze di produzione, aiutando i clienti a migliorare l'efficienza e a mantenere una qualità del prodotto costante.
Macchina laminatrice semiautomatica per wafer di pellicola da 12 pollici
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Espansore per wafer personalizzato con anello di presa della stessa dimensione
Sistema di cura del sistema UV a azoto di wafer
Sistema di indurimento UV di azoto LED, compatta e pratica del sistema di indurimento UV, 5 secondi per staccare il film dal wafer, tempo regolabile, illuminazione regolabile, protezione dell'azoto
Sistema di indurimento UV Wafer Nastro a LED Curatura UV Substrato in ceramica a semiconduttore
L'illuminazione può essere regolata, il tempo può essere regolato, persino curando, 5 secondi invocati,Compatibile con più dimensioni

Film wafer a semiconduttore Taiko da 8 pollici per la lacrima di pellicola di peeling attrezzatura per peeling

Adsorbimento del vuoto, piattaforma di riscaldamento, film lacrimale senza frammentazione, elettricità statica del vento ionico

Modello numero. :
DSXUV-TF
Marca:
DSXUV
Colore :
White
porto di spedizione :
Shenzhen
Pagamento :
T/T
regione originale :
China
Lead time :
15days

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Dettagli sul prodotto

Dimensione del wafer applicabile: le dimensioni standard sono 6 pollici, 8 pollici, 12 pollici e possono essere personalizzate in base alle esigenze dei clienti

Spessore: conformi agli standard di wafer Taiko (di solito 725um)

Metodo di lacerazione: manuale

Direzione da lacerazione: unidirezionale o bidirezionale

Requisiti di potere:

1-tensione: 110-220V, supporta la personalizzazione

2-frequenza: 50/60Hz

3 Potere: circa 200 W.

Pressione a 4 air: 0 4-0 6MPA

5 interfaccia: tubo da 8 mm

Ambiente operativo:

Temperatura: 20-25 gradi

Umidità: 40-60% RH

Chuck poroso in teflon, microporoso Chuck in ceramica può essere personalizzabile

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Puoi contattarci in qualsiasi modo sia conveniente per te. Siamo disponibili 24 ore su 24, 7 giorni su 7 via e-mail o telefono.

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