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Alta potenza 6 '' 8 '' 12 '' Semiconduttore di polimerizzazione dei sistemi di polimerizzazione del nastro del wafer UV Alta potenza 6 '' 8 '' 12 '' Semiconduttore di polimerizzazione dei sistemi di polimerizzazione del nastro del wafer UV Alta potenza 6 '' 8 '' 12 '' Semiconduttore di polimerizzazione dei sistemi di polimerizzazione del nastro del wafer UV Alta potenza 6 '' 8 '' 12 '' Semiconduttore di polimerizzazione dei sistemi di polimerizzazione del nastro del wafer UV

Alta potenza 6 '' 8 '' 12 '' Semiconduttore di polimerizzazione dei sistemi di polimerizzazione del nastro del wafer UV

Sistema di polimerizzazione del nastro del wafer UVRisolve il processo di polimerizzazione della tecnologia di taglio del wafer, del vetro e della ceramica, che non è solo limitato al settore dell'imballaggio del semiconduttore, ma anche applicabile alla polimerizzazione del film UV di lente ottica, LED, IC, semiconduttore, circuito stampato, circuito stampato, disco rigido mobile e altro semiconduttore Materiali.

  • Modello numero. :

    UV Wafer Curing Equipment
  • Marca:

    DSXUV
  • porto di spedizione :

    Shenzhen
  • Pagamento :

    T/T 100% Before Shipment
  • regione originale :

    China
Dettagli sul prodotto

Nel processo di produzione del chip semiconduttore, il wafer deve essere fissato sul telaio con il film wafer prima del chip scribing. Dopo il completamento del processo di scrittura, LUCE UV LEDViene utilizzato per illuminare il film fisso per rendere il film UV che si induriscono e indurire il film viscoso, in modo da ridurre la viscosità del film fisso di scrittura e facilitare la produzione fluida del packaging successivo Processo. In altre parole, il nastro UV ha una forte forza adesiva che terrà saldamente il wafer Durante la rettifica o il taglio del wafer Processo. Quando . La radiazione ultravioletta, la forza di legame diventa basso. Di conseguenza, il wafer o il chip possono facilmente staccare il nastro adesivo dopo essere stato esposto a Ultraviolet Light. Sistema di polimerizzazione del nastro del wafer UV Risolve il processo di polimerizzazione della tecnologia di taglio del wafer, del vetro e della ceramica, che non è solo limitato al settore dell'imballaggio del semiconduttore, ma anche applicabile alla polimerizzazione del film UV di lente ottica, LED, IC, semiconduttore, circuito stampato, circuito stampato, disco rigido mobile e altro semiconduttore Materiali. La lampada UV Mercury è comunemente utilizzata nelle ceramiche UV esistenti, ma la sorgente luminosa della lampada a mercurio con elevata emissione di calore è facile da danneggiare materiali termici sensibili, con bassa efficienza e difficili da controllare con precisione lo standard di qualità, che non è adatto per l'irradiazione di dispositivi ad alta precisione come chips. La macchina per la polimerizzazione della sorgente UV a LED a bassa temperatura ecologica ha adottato da Guangdong Spacelight Technology Co., Ltd.Può facilmente completare il processo di polimerizzazione del film UV senza danneggiare il wafer, che può soddisfare notevolmente la produzione requisiti.


parametri di Grande macchina per esposizione a LED UV : .

Sell Offers UV LED Exposure Equipment for Wafers from China

Dimensione dell'ospite di Camera a luce indurente UV

L320 * W384 * H246.8MM

peso

6.5kg .

raffreddamento

aria condizionata

potenza di ingresso

100-240V AC 50-60 Hz.

Materiale

lamiera bianca

Guidare il numero di teste luminose

una fonte di luce

artigianato

Stoving . vernice

Mostra A. operazione ND.

Display touch screen, tempo regolabile, illuminazione

Imposta il blocco

Password mutevole

Funzione di accumulo del tempo a LED

registrare attivamente il tempo di utilizzo cumulativo


Sell Offers UV LED Exposure Equipment for Exposure Manufacturers


dimensione luminosa di Attrezzatura per esposizione a LED UV

Diametro : 150mm .

potere totale

350w .

Dimensione del dispositivo

5.9 . pollice

raccomandare altamente.

10 ~ 15mm

raffreddamento

aria condizionata

lunghezza d'onda

predefinito 365nm ., personalizzabile 385 . / . 395 . / . 405 .

illuminamento

300-2000MW / cm2

La sorgente luminosa prevede la vita del servizio

20000 . H.


caratteristiche di Macchina per la cura del nastro UV del semiconduttore : .

1. Piccolo . Corpo, adatto per 6 / 8 / 12 / 15 Chip di pollici Irradiazione.

2.Time . e luminosità regolabile, funzionamento del touch screen, semplice e conveniente.

3.Bottom . su irradiazione per un facile posizionamento di wafer.

4.LED . Sorgente luminosa di clod, prodotti di protezione ambientale, con bassa temperatura, esposizione uniforme, struttura compatta, basso consumo energetico, è il tipo ideale di industria dei semiconduttori e la bassa temperatura nessun danno a sensibile termica Materiali.

5.Its . La durata della durata è 10 volte più lunga quello del normale mercurio lampada. La sua durata continua è 15000-30000h.

6.ZERO . Costo di manutenzione, lavoro a lungo termine senza sostituzione della fonte di illuminazione Parti.

7.CancLosed Design della sorgente luminosa, nessuna perdita laterale ultravioletta, nessun danno all'uomo corpo.


no.

soddisfare

parametri

1.

Dimensione del wafer.

6. " . 8. " . 10. " . 12. '' (Multiple Specifiche sono Disponibili)

2.

area luce

Φ . 150mm, Φ . 200mm, Φ . 300mm .

3.

voltaggio nominale

AC 110 / 220V

4.

frequenza

50 / 60Hz

5.

Potenza nominale

350-900W

6.

lunghezza d'onda della luce UV

365NM-415NM Selezionabile . , . normale 365nm .

7.

dimensione ( . L * w * h ) .

320mm . × . 384mm . × . 247mm .

(Dimensione Personalizzabile)

8.

Peso della macchina

6.5kg .

9.

Tipo di film

UV. film tutti i tipi di Nastro UV

10.

Spessore del film

0.15 . ~ 2mm .

11.

direzione di irradiazione

Bottom up Exposure.

12.

modalità operativa

Funzionamento del touch screen.

13.

Tempo di impostazione del timer.

Illimitato, regolabile (unità : s)

14.

Tempo di completamento della polimerizzazione

A seconda delle caratteristiche del nastro UV (minimo 5s)

15.

Impostazione dell'intensità dell'esposizione

20% ~ 100% , luminosità regolabile

16.

Raccordi di sistema

personalizzato in base al cliente Requisiti. Default 5.9 Inch.

Vi preghiamo di contattarci per maggiori dettagli : uvcure@uvspacelight.com . (Jennifer)


UV Film Viscosity Remover Machine

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